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安全实用真空高温烘箱
简要描述:

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安全实用真空高温烘箱

真空高温烘箱的必要性:
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

真空高温烘箱一般工作流程:
首先确定工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

真空高温烘箱特点:
美观耐用性:内采用SUS不锈钢,外采用A3钢板,喷塑处理;       
使用安全性:加厚的保温层,良好的保温性能,隔热、节能效果显著;     
控制稳定性:智能微电脑控制仪表,数字显示,控温精度高、准确;      
高性能:巧妙的风道设计,温度均匀度高;    
实用性:强力门扣加特制的密封材质,确保箱内密封效果优良;     
可靠性:完善的安全保护装置,适合长期连续运行。

真空高温烘箱箱体结构:
1)本设备由室体、真空系统、保护系统、电气控制系统等组成
2)箱体采用先进的机械设备制作、工艺先进、线条流畅,美观大方
3)内箱材质为3mm厚优质不锈钢拉丝板经抛光处理,加强胫进行加固。外箱材质为1.2mm厚优质冷轧钢板经表面特殊处理后静电喷涂而成。
4)门与门框之间采用高性能密封材料及独特的硅橡胶密封结构,密封、抗老化性好。
5)箱内设有不锈钢活动样品架,可拆卸易清洗。

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